如何建造一個百級半導(dǎo)體芯片潔凈室
半導(dǎo)體芯片制造屬于光電半導(dǎo)體行業(yè),有專門的半導(dǎo)體芯片潔凈室廠房,其生產(chǎn)車間需要達到百級潔凈室。
1、半導(dǎo)體芯片制造的基本流程
制作一顆半導(dǎo)體芯片的生產(chǎn)線是非常復(fù)雜的,大約會涉及到五十個行業(yè)、2000-5000個工序;就拿代工廠來說,需要先將“砂子”提純成硅,再切成晶元,然后加工晶元;晶元加工廠包含前后兩道工藝,前道工藝分幾大模塊——光刻、薄膜、刻蝕、清洗、注入;后道工藝主要是封裝——互聯(lián)、打線、密封;光刻是制造和設(shè)計的紐帶;其中許多工藝都在獨立的工廠進行,而使用的設(shè)備也需要專門的設(shè)備廠制造;使用的材料包括幾百種特種氣體、液體、靶材,都需要專門的化工工業(yè);另外,集成電路的生產(chǎn)都是在超凈潔凈室進行的,因此還需要排風(fēng)和空氣凈化等系統(tǒng)。
2、百級半導(dǎo)體芯片潔凈室廠房
半導(dǎo)體芯片廠對于生產(chǎn)環(huán)境的空氣潔凈度非常挑剔,就算是一粒小小的粉塵,粘在半導(dǎo)體芯片上也可能造成短路,進而直接影響成品率;粉塵的危害尚且如此,空氣中的化學(xué)污染就更不用說了;因此,半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)一般是在無塵室中進行,并且生產(chǎn)半導(dǎo)體芯片的潔凈室潔凈度達到百級。
3、潔凈度百級潔凈室的標準:
大于等于0.5μm的塵粒數(shù)大于350粒/m3(0.35粒/L)到小于等于3500粒/m3(3.5粒/L);大于等于5μm的塵粒數(shù)為0;
微生物大允許數(shù):浮游菌每立方米不能超過5個;
溫度:22℃±2;
濕度:55%±5;
基本需要滿布FFU,做高架地板;
做MAU+FFU+DC系統(tǒng),還有保持正壓,相鄰房間壓力梯度保證在10pa左右;
百級潔凈室若非得用換氣次數(shù)來衡量的話200次/h以上;
百級潔凈室若是以層流風(fēng)速來說的話>0.35 m/s;
百級潔凈室若以HEPA高效空氣過濾器對吊頂覆蓋率的話>50%。
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